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12寸10槽晶圆烘烤提篮

产品简介: 12寸晶圆烘烤提篮创新采用 10 层两侧直通槽结构设计,可耐300摄氏度高温。通过科学优化的槽位布局,实现与晶圆片的广域均匀接触 —— 相较于传统槽体设计,接触面积极大提升的同时,接触压力更趋均衡,既能为晶圆片提供全方位的稳定支撑,有效分散重力荷载,避免局部应力集中导致的晶圆微损伤,更能在存取操作中形成导向式防护,降低片体偏移、刮擦风险,为高价值晶圆提供全流程安全保障。
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产品详情介绍

12寸晶圆烘烤提篮创新采用 10 层两侧直通槽结构设计,可耐300摄氏度高温。通过科学优化的槽位布局,实现与晶圆片的广域均匀接触 —— 相较于传统槽体设计,接触面积极大提升的同时,接触压力更趋均衡,既能为晶圆片提供全方位的稳定支撑,有效分散重力荷载,避免局部应力集中导致的晶圆微损伤,更能在存取操作中形成导向式防护,降低片体偏移、刮擦风险,为高价值晶圆提供全流程安全保障。

产品秉持轻量化设计理念,在精选高强度航空级合金材料的基础上,通过结构拓扑优化去除冗余重量,实现 “质轻易携” 与 “稳固耐用” 的完美平衡:整体机身抗震性强、不易变形,能耐受实验室高频次存取操作与环境温湿度波动,使用寿命远超行业平均水平;表面经特殊阳极氧化与精密抛光处理,不仅具备优异的防腐蚀、抗磨损性能,更能有效减少颗粒吸附,契合半导体行业对洁净度的严苛要求。

尤为适配小型实验室、研发机构及产前验证阶段的应用场景:轻量化特性降低了手动操作强度,便捷适配小型晶圆处理设备的空间布局;10 层合理槽位配置满足小批量晶圆存储与转运需求,无需大规模配套设备即可快速开展实验验证;稳定的结构设计与可靠的防护性能,能在产品研发、工艺优化等关键验证环节中,确保晶圆品质不受外界因素干扰,助力用户高效推进项目进程,降低前期研发成本与风险。


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